色谱阀和接头 | 富集和释放阀

 

μInProve 富集和释放阀

T&R valve large

uInProve T&R阀旨在提高性能并减小富集和释放系统(T&R)的尺寸。基于我们的PLSV技术,它具有出色的泄漏完整性和使用寿命,可改善信噪比和色谱稳定性。

特制的T&R嵌件设计使我们能够嵌入一个独特的4步骤的过程。结果是简化和改进色谱性能。所有这些都由我们先进的多位置电动驱动器来控制的。

特点

  • 独特的富集隔离步骤可改善色谱方法和峰型的锐度
  • 独特的样品基质放空步骤可简化和改进色谱方法
  • 由于PLSV技术泄漏的完整性,释放阶段检测器的基线没有变化。
  • 由于具有独特的泄漏完整性,因此可与诸如质谱仪,DID,PDHID,PED和Epd之类的高灵敏度检测器兼容。
  • PLSV设计延长了使用寿命
  • 紧凑型设计
  • 能在真空状态下使用
  • 用户可配置顺序和持续时间
  • 医用版本可用于呼气采样

*仅适用于ASDevices T&R子模块

 

独特的4个步骤的过程

 

 

富集中

在此位置,样品气体流入富集阱,而载气则流入色谱系统。

样品基质放空

在此位置,载气仍在流入色谱系统。但是,一个独特的放空端口连接到富集阱,以放空样品基质而不放空被富集的分子。

隔离

 

在此位置,载气仍在流入色谱系统。但是,富集阱是完全隔离的。这样可以在将富集阱释放到色谱系统之前对其进行加热和稳定。

释放

 

在这个位置上,富集阱中的物质被释放到色谱系统中。

样品基质放空步骤

 

我们的阀门技术包括一个端口,气体(通常是载气)连接到该端口。因此,无需使用多个阀门即可实现此功能。所有这些都是通过一个阀门完成的。

在此位置,该气体用于从富集阱中放空大部分样品基质。因此,只有少量残留的样品基质被注入色谱柱。 

此嵌入步骤具有许多优点。它可以通过减少色谱柱上的样品基质负载来简化色谱方法。它还减少了阀门的数量。这简化了洗脱时间接近样品基质的杂质的色谱分离。同样,某些样品基质会污染色谱柱,随着时间的流逝影响色谱仪并产生噪音。典型的例子是周围空气中含有大量的水分。

在其他情况下,例如空气或氧气中的VOC或碳氢化合物分析,它允许在加热之前从富集阱中放空氧气。在高温下,氧气会与某些分子发生反应并影响测量。

用氩作为载气的<1 PPB 检测限的永久气体分析

对于大多数需要将永久性气体测量到低于1 ppb的检测限的色谱系统,氦气是首选的载气。不幸的是,氦气很昂贵。

通过将ASDevices创新的uInProve T&R技术与可以浓缩永久性气体的专有富集材料和Epd检测技术相结合,现在可以在色谱系统中实现超低检测限,从而使操作更简单,更经济。

以下是使用我们的技术测量N2,CH4和CO的示例。 uInProve T&R独特的样品基质吹扫功能使氢气基质被放空,而我们独特的富集材料则可以使永久气体浓缩,因此检测限<1 ppb。

没有其他技术可以做到。 多亏了我们所有创新技术的结合。